据《信息》(一份在研究方面信誉良好的媒体)报道，中国开始生产自主研发的浸没式紫外线（DUV）光刻机，这触发了ASML和半导体股价的下跌。目前，我认为市场反应过度，因为生产数量小，而且也没有证据表明中国的机器技术上与ASML相比。据报道，中国在2026年目标生产约五台机器，在2027年约20台机器。与此相比，ASML在2025年销售279台DUV系统，包括大约131台浸没式系统，预计2026年将交付约130台浸没式系统。这意味着中国计划的2026年产量将代表ASML预期的年度浸没式交付的不到4%。市场担心中国已经开始在半导体制造中最复杂的领域之一中建立可信的国内替代品，但我们仍然不知道他们的机器如何。他们很可能仍然落后于ASML在性能、可靠性和overlay准确性、运行时间、缺陷率或制造产量方面。记得Deepseek吗？中国在技术上填补了差距，即使还没有测试模型... 这很可能是重复的同一个故事。然而，DUV是ASML在中国的最后一个主要据点，因此预计会有一个损失，ASML成熟的节点依赖性减少，因此一些风险偏离ASML是预期的，但整个半导体行业反应如此激烈，这是杜夫相对于欧夫（EUV）来说远远不够复杂的。请注意，中国对ASML的贡献正在下降 - 预计2026年将占ASML收入的20%，比2025年的33%低。2026年第一季度，中国产生了约€2.9亿，占ASML总收入的16%。另外，请注意，ASML将2026年收入指导提高到€43-€45亿，因为强大的AI相关逻辑和内存需求offset了中国的下降。